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年度	2026年度	開講部局	先進理工系科学研究科博士課程前期
講義コード	WRA11801	科目区分	専門的教育科目
授業科目名	CMOSプロセス実習
授業科目名 （フリガナ）	シーモスプロセスジッシュウ
英文授業科目名	CMOS Process Training
担当教員名	東　清一郎
担当教員名 (フリガナ)	ヒガシ　セイイチロウ
開講キャンパス	東広島	開設期	1年次生   後期   セメスター（後期）
曜日・時限・講義室	(後) 集中
授業の方法	実習	授業の方法 【詳細情報】	オンライン（オンデマンド型）
			この実習はVR機器を使用し，オンライン（オンデマンド型）で実施します。
単位	1.0	週時間		使用言語	J : 日本語
学習の段階	5 : 大学院基礎的レベル
学問分野（分野）	25 : 理工学
学問分野（分科）	12 : 電子工学
対象学生	博士課程前期生
授業のキーワード	半導体，CMOSプロセス，VR実習
教職専門科目		教科専門科目
プログラムの中での この授業科目の位置づけ （学部生対象科目のみ）
到達度評価 の評価項目 （学部生対象科目のみ）
授業の目標・概要等	現代社会を支える半導体はクリーンルームと呼ばれる極限までゴミを減らした特殊環境で製造されます。これは極微細なトランジスタを大規模集積する上で欠陥を極限まで減らすためであり，先端技術のベースとなるCMOSトランジスタの製造過程を理解することを目標とします。特に各プロセスでどの様な物理現象が利用され，どの様な工程がどの様な目的で実施されているかを学びます。全８回の講義を受講してください。
授業計画	第1回 第2回 第3回 第4回 第5回 第6回 第7回 第8回 第9回 第10回 第11回 第12回 第13回 第14回 第15回 　本実習はクリーンルームという特殊環境への入室制限にとらわれず，更に遠隔の学生であっても広島大学産業技術研究所のクリーンルームでおこなわれるCMOSトランジスタ作製プロセスを学ぶことができるように，VRコンテンツとして用意されています。これを通して，以下の様な主要工程を学びます。 ・クリーンルームの作りと防塵対策 ・ウエハ洗浄工程 ・フォトリソグラフィー工程 ・酸化，拡散工程 ・イオン注入工程 ・製膜，エッチング工程 等
教科書・参考書等	配布資料
授業で使用する メディア・機器等	映像資料, その他（【詳細情報】を参照）, moodle
	【詳細情報】	VRコンテンツを使用した実習を行います。
授業で取り入れる 学習手法	授業後レポート
予習・復習への アドバイス	半導体デバイスが完成するまでの工程を順を追って学んでいきます。それぞれの工程で使われている技術を理解するとともに，デバイス構造が作られていく過程をよく理解してください。
履修上の注意 受講条件等
成績評価の基準等	レポート、試験等
実務経験
実務経験の概要と それに基づく授業内容
メッセージ	最先端を支える半導体技術においてCMOSトランジスタが造られる工程を，段階を追って学んでみると，様々な物理現象が巧みに利用されているその面白さに気付くことができます。
その他
すべての授業科目において，授業改善アンケートを実施していますので，回答に協力してください。 回答に対しては教員からコメントを入力しており，今後の改善につなげていきます。